NF ISO 23812 : 2009
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SURFACE CHEMICAL ANALYSIS - SECONDARY ION MASS SPECTROMETRY - METHOD FOR DEPTH CALIBRATION FOR SILICON USING MULTIPLE DELTA-LAYER REFERENCE MATERIALS
01-12-2013
Avant-propos
Introduction
1 Domaine d'application
2 Références normatives
3 Termes et définitions
4 Symboles et termes abrégés
5 Exigences relatives aux matériaux de référence
à couches delta multiples
6 Modes opératoires de mesurage
7 Modes opératoires d'étalonnage
7.1 Principe d'étalonnage
7.2 Détermination de la vitesse de pulvérisation
pour un matériau de référence
7.3 Étalonnage de l'échelle de profondeur pour un
échantillon pour essai
7.4 Incertitude de la profondeur étalonnée
8 Expression des résultats
8.1 Étalonnage dans les mêmes conditions de
pulvérisation que le matériau de référence
8.2 Étalonnage utilisant une vitesse de pulvérisation
différente de celle utilisée pour l'échantillon
pour essai
8.3 Étalonnage de la concentration
9 Rapport d'essai
Annexe A (informative) Parcours projeté de l'ion
d'oxygène dans le silicium
Annexe B (informative) Estimations des décalages de
pic dus au mixage d'atomes
Annexe C (informative) Estimations du décalage de pic
dû à la coalescence du pic
Annexe D (informative) Dérivation de l'incertitude
Bibliographie
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